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[차세대반도체사업단] 반도체 공정실습 외부교육(렛유인) 수강료 지원 안내(25년 7월 하계교육)(~7/14)

관리자 2025-06-24 조회 1746


중앙대학교 차세대반도체 혁신융합대학사업단에서 반도체 공정실습 외부교육 (렛유인-수도권 과정)에 참여할 학생을 모집하오니, 수강을 희망하는 우리 대학 학생은 신청하여 주시기 바랍니다.

1. 강의명 : 반도체 공정실습 - 수도권
※ 렛유인 홈페이지 - 렛유인 이공계취업 1위, [클릭! 사전 알리미 접수 중] 반도체 공정실습 - 수도권/지방권 (letuin.com)
※ 자세한 일정은 일정표 확인 필수

2. 지원 사항 : 수강료 전액 지원
※ 07월 17일(목) 까지 취소 가능, 그 이후에 취소할 경우 혁신융합대학사업 및 차세대반도체학과에서 열리는 비교과 프로그램 참여 제한

3. 지원 기간 및 발표 일시
- 신청 기간 : ~ 07월 14일(월) 14:00까지 구글 폼 제출
- 발표 일시 : 07월 16일(수) 14:00 메일 및 문자로 결과 발송 예정
※ 일정은 제출 인원 및 선발 과정에 따라 변경될 수 있습니다.

4. 공정 실습 기간 및 장소
- 공정 실습 기간 :  2025. 07. 31.(목) 이론 강의 1일(ZOOM) + 08. 01.(금) ~ 02.(토) 공정 실습 2일

- 공정 실습 장소 : 서울테크노파크 - 서울과학기술대학교(노원구)

5. 지원 자격
1순위 : 마이크로디그리 이수자
2순위 : 마이크로디그리 이수예정자 (차세대반도체학과 개설과목 9학점 이상 이수)
※ 여러 학생이 지원할 시, 우선권을 부여하기 위하여 순위를 설정함.
※ 위 지원 자격에 해당하지 않는 학생은 지원 불가능
※ 최소 인원 미달의 경우 실습이 취소될 수 있음.

6. 신청 방법 : 구글 폼 신청 https://forms.gle/PGqKgP1rz4xp4XM46

7. 유의사항
강의 이수 후 발급되는 NCS 수료증을 필히 제출하여야 함

※ 관련문의 : 차세대반도체 혁신융합대학사업단 (02-881-7301, semicon@cau.ac.kr)

반도체 공정실습 대비 이론 주제 주요내용 시간 반도체 기초 반도체 기본 이론 (물질 등) - 반도체 소자 기초 이론 (MOSFET 등) 반도체 공정 기초 이론 11시 ~ 18시 강의 6시간 중식 1시간 Deposition & Metal Deposition 이론 (PVD, CVD, ALD)  Metallization 이론 (Plating) Photolithography  Photolithography 이론 (Spin coating, 노광설비, 공정설비, Stepper) Etching  Etching 이론 (Wet vs. Dry Etching, 에칭설비) Cleaning  Cleaning 이론 (Wafer 오염, RCA Clean, Wet Cleaning 세정설비) Layout  Layout 이론 (Mask 설계, CMOS Inverter) DNI & Oxidation  DNI & Oxidation 이론 (Diffusion, Ion Implantation, Annealing, Oxidation) CMP  CMP 이론 (CMP 설비, 공정, Defect) Measurement &Inspection 측정 및 분석, I-V Curve, SEM, TEM